Substratos de discos de vidrio críticos de plano óptico para deposición de películas finas

Substratos de discos de vidrio críticos de plano óptico para deposición de películas finas

El material

• Vidrio de alta pureza: generalmente hecha de sílice fundido (JGS1/JGS2), borosilicato o cuarzo, seleccionada para su expansión térmica ultrabaja e inertad química.

  • Silicio fundido: Preferido por su excepcional homogeneidad, bajo contenido de OH y resistencia a los choques térmicos.

  • El borosilicato: Alternativa rentable con una estabilidad térmica moderada y una buena polibilidad de la superficie.

• Calidad de la superficie: Diseñado con una planitud de λ/10 a λ/20 para garantizar una desviación mínima en los recubrimientos de precisión.

Propiedades clave

1. Aplanamiento óptico: Planitud de la superficie ≤ λ/10 (a 632,8 nm), crítica para la deposición uniforme de película delgada y minimizar la distorsión del frente de onda.

2. Estabilidad térmica: Bajo coeficiente de expansión térmica (por ejemplo, 0,55 x 10−6/°C para sílice fundido) evita la deformación durante procesos de alta temperatura como CVD o pulverización.

3. Resistencia química: Inerte a ácidos, plasmas y disolventes, garantizando una durabilidad en ambientes de deposición agresivos.

4. Homogeneidad de la superficie: La uniformidad del índice de refracción (± 5 x 10−6) evita distorsiones ópticas en las películas recubiertas.

5. Durabilidad mecánica: Alta dureza (Mohs 5 ̊7) resistente a los arañazos durante la manipulación y el procesamiento.

Función

• Substrato de película delgada: Proporciona una base muy plana y estable para depositar recubrimientos (antireflectores, dieléctricos, metálicos).

• Compatibilidad de los procesos: Compatible con PVD, CVD, ALD y técnicas de pulverización, garantizando la adhesión y el grosor uniformes de la película.

• Referencia de metrología: Sirve como estándar de calibración para interferómetros y perfiladores de superficie debido a su exactitud plana.

Aplicaciones

• Fabricación de semiconductores: Máscaras fotográficas, espejos de litografía EUV y dispositivos ópticos MEMS.

• Industria de la óptica: filtros recubiertos, divisores de haz y óptica láser que requieren una precisión de nivel nanométrico.

• Investigación y desarrollo: Nanotecnología, fotónica y experimentos de computación cuántica.

• Aeroespacial y Defensa: Sensores de precisión, óptica por satélite y sistemas de guía láser.

• Dispositivos médicos: Revestimientos ópticos para sistemas de imágenes, endoscopios y equipos de diagnóstico.