Componente óptico de vidrio de silicio fundido de alta precisión JGS1 JGS2

Componente óptico de vidrio de silicio fundido de alta precisión JGS1 JGS2

1Composición del material

• JGS1 Silicio fundido:Vidrio sintético de cuarzo con una transmisión ultravioleta (UV) excepcional, particularmente en el rango UV profundo (185-250 nm), y bajo contenido de hidroxilo (OH).

• JGS2 Silicio fundido:Vidrio de cuarzo sintético con transmisión infrarroja superior y mayor estabilidad térmica, con mayor contenido de hidroxilo para diferentes prestaciones ópticas.

• Fabricación de alta precisión:Los componentes se fabrican utilizando técnicas avanzadas de rectificación CNC, torneado de diamantes y pulido para lograr una precisión de superficie submicrónica y tolerancias dimensionales ajustadas.

2Propiedades ópticas y físicas clave

• Rango de transmisión espectral:

  • JGS1:Excelente transmisión desde 185 nm (UV profundo) hasta 2,5 μm (Near-IR).

  • JGS2:Excelente transmisión desde 260 nm (UV) hasta 3,5 μm (IR medio).

• Estabilidad térmica y mecánica:Extremadamente bajo coeficiente de expansión térmica (0,55 x 10−6/K), alta resistencia al choque térmico y una fuerte durabilidad mecánica.

• Calidad de la superficie:Puede lograr acabados superficiales de grado láser (por ejemplo, llanura λ / 10, excavación de rasguños 10-5) con un daño mínimo en el subsuelo.

• Resistencia al daño por láser:Un umbral alto adecuado para aplicaciones excimer, UV y láser de alta potencia.

3. Funciones básicas

• Transmisión y control de luz de precisión:Manipula la luz UV a IR con una distorsión mínima del frente de onda, dispersión o absorción.

• Dirección y enfoque del haz:Sirve como lentes, ventanas, prismas y espejos de alta precisión en rutas ópticas complejas.

• Barrera ambiental y térmica:Protege la óptica interna sensible en ambientes volátiles manteniendo la estabilidad en amplios rangos de temperatura.

• Interfaz crítica del sistema:Asegura un rendimiento óptimo en aplicaciones que requieren una alineación óptica exacta y una pérdida de señal mínima.

4Aplicaciones primarias

• Fotolitografía por semiconductores:Componentes críticos en los escáneres y los escáneres que utilizan láseres UV profundos (DUV).

• Sistemas láser de alta potencia:Ventanas, lentes y óptica de entrega de haz para excimer, Nd:YAG y láseres de fibra.

• Astronomía y óptica espacial:Espejos de telescopio, lentes de satélite y componentes de espectrómetro que requieren estabilidad térmica.

• Instrumentos analíticos y de las ciencias de la vida:Células de espectrofotómetro UV-Vis, ventanas de detectores de fluorescencia y óptica de microscopio.

• Metrología e inspección industriales:Óptica de precisión para interferómetros láser, sistemas de inspección de obleas y máquinas ópticas de medición de coordenadas.